Проаналізовано сучасні методи отримання зінтегрованих схем. Розглянуто фізичні процеси і властивості основних технологічних процесів під час створення зінтегрованих схем. Детально проаналізовано фізику формування мікроструктур із наперед заданими властивостями р-n переходів, отриманих дифузією або іонним впровадженням домішки в матеріал. Значну увагу приділено процесам окиснення в технології створення зінтегрованих схем, а також створення плівкових мікроструктур, зокрема структур кремній-на-ізоляторі. У посібнику розглянуто низку проблемних питань, що пов’язані з технологією створення елементів ЗІС у галузі мікро- та наносистемної техніки.
Для студентів, які навчаються за спеціальністю 153 “Мікро- та наносистемна техніка”, а також для наукових, інженерно-технічних працівників та широкого загалу спеціалістів у галузі твердотільної електроніки.

Зміст

Вступ

Про авторів